在某些Fe-SEM的浸没/ UHR模式下启用纳米级TKD映射

最近近期采用纳米技术引发了扫描电子显微镜（SEM）中最高分辨率的竞争。实现最终空间分辨率的一种方法使用磁性浸渍透镜。以前，使用浸没透镜的取向映射是不可能的。这是因为镜头产生的磁场干扰了传输Kikuchi模式（TKP）收集和分析过程。干扰有两个主要组件：

• 散射电子被约束在SEM的光轴周围的狭窄空间内（见下面的TKP“）。
• Kikuchi图案扭曲，旋转和由磁场移位。

首先，kikuchi信号减小到距SEM的光轴膨胀至多10mm的区域。围绕光轴的电子电容意味着很少散射的电子将达到标准EBSD.检测器通常将其磷光体筛距离SEM的光轴大于15mm的距离。在轴上tkd技术使能Optimus 2.通过捕获来自SEM光轴的Kikuchi模式来解决此问题。

其次，磁场在TKP中存在产生的沉重扭曲，呈现不可能进行准确的带检测。为了纠正扭曲并补偿TKP中的旋转并转移，我们开发了一种名为ESPRIT FIL TKD（全浸没镜头TKD）的新软件功能（专利申请）。该功能易于校准，并已完全集成在自动地图采集过程中Esprit 2软件。

具有在轴上TKD的FIL TKD特征的组合使得可以使用高端FE-SEMS进行精确的方向映射，同时在其超高分辨率模式下操作，即浸入镜头有效。

在图2所示的TKD结果中清楚地看到HW和SW选项的这种独特组合的最终结果或益处。2（*）。模式质量图（左）在定性上展示，当激活浸入镜头时，物理空间分辨率远远较大（更清晰的功能）。在用浸没透镜主动的定向图中可以清楚地看到更精细地比10nm更精细的谷物/特征。