半导体结构在SEM(T-SEM)中使用茎ED的高分辨率映射

半导体纳米结构与基于X射线的方法的元素分布映射并不总是直接向前。在研究了半导体材料时,纳米级空间分辨率和X射线峰值重叠是共同的挑战。必威手机客户端传输模式(T-SEM)中的SEM有时可以替换昂贵的TEM。本示例显示了高分辨率eds.使用环形在SEM中获取的半导体结构的地图Xflash.®Batrquad.EDS检测器,具有4个SDD象限,可在样品和SEM极靴之间设置径向对称性。使用220Pa波束电流在20 kV下获得地图。Xflash的高灵敏度®Batrquad探测器允许在SEM中达到10nm的空间分辨率(参见图2)。尽管X射线峰值强烈重叠,但由于在Bruker中实施的峰值折叠模型模型,硅(Si)和钨(W)可以在地图中得到很好的区别Esprit.软件(见图1)。

图1:RAM微芯片的元素分布图和提取的区域光谱证明了Si和W成功的折折叠
图2:从图2中的超图提取的线扫描。1:它揭示了沿轮廓的元素分布的变化,具有10nm的横向分辨率。