JVX7300LSI
投资式研发
Highlights
JVX7300LSI
JVX7300LSI自动衍射仪设计用于半导体材料的内线研发和在线生产过程监测。必威手机客户端它可以在半导体行业中对许多高级材料进行全自动表征。必威手机客户端JVX7300L是标准配置，包括扫描HRXRD，XRR，XRD，GI-XRD和WA-XRD，用于应变计量，薄膜和毯子上的相位分析。该系统具有全自动源光学元件，即使在同一配方批处理中，系统也可以在没有用户干预的情况下进行切换。对齐，测量，分析和报告的完全自动化可确保薄膜的生产和快速表征。
特征
Key Features
Versatile X-ray diffractometer for automated thin film production monitoring
- XRR: thickness, roughness, density of thin films and stacks
- XRD (grazing incidence/wide angle): phase, crystallinity, texture, residual stress
- In-plane XRD: phase, crystallinity of ultrathin films
- HRXRD: strain, thickness, composition of epitaxial layers.
High throughput
- High flux source
- High dynamic range 0D detector, 1D, 2D as option..
高分辨率
- High angular resolution goniometer
- Low divergence optics.
300-200-150mm wafers, mounted horizontally
Full automation
- Wafer handling with 2 FOUP load ports
- 配方驱动的工具配置更改包括。晶体和缝隙
- 样品分析流 - 从对齐到报告
- SECS/GEM.
行业领先的控制和分析软件RAD，参考
半S2/S8，CE
Applications
Key Applications
JVX7300LSI在全球范围内用于高级节点逻辑和内存晶圆厂。
关键应用程序是：
- High-K thickness, density and crystallinity for DRAM and NAND
- III-V on Si for future node development
- GaN on Si for power transistors
All applications are enabled by our comprehensive analytical software suite for analysis, simulation and fit: RADS and REFS.
Accessories
Options and Accessories
S渠道
对于图案化晶片的测试结构的小点测量，可以添加S通道，该通道的斑点大小为50µm x 50 µm，在样品中。可以将通道配置为高分辨率光束，用于在外延层上用µhrxRD的应变测量，也可以将其用于晶体膜上的相，结晶度和方向测量值的µXRD光束。
The S channel comes with fully automated pattern recognition.
我频道
在平面内XRD测量的可选I通道上，实现了超薄晶膜的相位和方向监测。
支持
支持
How Can We Help?
Bruker与我们的客户合作解决了现实世界中的应用程序问题。我们开发下一代技术，并帮助客户选择正确的系统和配件。在工具出售工具很久之后，这种合作伙伴关系继续通过培训和扩展服务。betway手机客户端下载
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