D8发现
高性能xrd.
ハイライト
D8发现は、最先端のテクノロジーを搭載した多目的十、線回折計のフラッグシップモデルです。粉末、非晶質、多結晶材料からエピタキシャル多層薄膜まで、あらゆる材料の構造解析を大気雰囲気や雰囲気制御下で実現できるよう設計されています。
アプリケーション：
- 結晶相同定・結晶相定量、構造解析と精密化、結晶子サイズや結晶子歪などの微構造解析
- X线反射率测定（XRR），すれすれ入射回折（GixRD），面面回折（在线GID），高分子能回折（HRXRD），すれすれすれ小角X线（Gisaxs），薄膜薄膜力解析，结晶方向解析（ODF）
- 残留応力解析、集合組織・極点図測定、微小部十、線回折 （μXRD）広角十、線回折 （韦克斯）
- 全散乱測定: 布拉格回折、二体分布関数 （PDF）小角十、線散乱 （萨克斯）
マーケットギャラリー
エネルギー貯蔵・バッテリー
製薬
地質・鉱物
金属材料・機械部品
薄膜分析
特長
主な機能
マイクロフォーカス十、線源 IμS
2更多层膜ミラー蒙特尔光学系系采采したx线路iμsは，微小领域や小さなサンプルのに最适な高度微小平行。
- 高輝度・低バックグラウンド嗯サイズ十、線ビーム
- 低消费电力，完全完全，长寿命设计をするグリーンデザイン
- 蒙特尔光学系がビームサイズとビーム発散を最適化
- 布吕克の豊富なコンポーネント、光学系、検出器シリーズと完全互換
联电サンプル ステージ
D8发现では、比類のないマッピングエリアとサンプル耐荷重を兼ね備えた数多くの联电ステージを選択できます。
- 大大耐荷重5kgまでのサンプルマッピング
- 最大300毫米サイズまでの広域サンプルマッピング
- 最大3.つのウェルプレートを搭載できるハイスループットスクリーニング （HTS）用ウェルプレートチェンジャー联电ステージ
すぐれたモジュールデザインにより、標準的な構成をさらに拡張することで、測定ニーズに応じたカスタマイズが可能です。
マルチモードEIGER2R検出器
Eiger2 R 250kおよび500kは，実験室のx线回折に性能もたらす2d検出器です。
- 革新的な艾格尔の第2.世代を含む高度なセンサー設計：75x75mm²のサイズで最大500ピクセルにより、微視的解像度で巨視的カバレッジが可能になります。
- サンプル－検出器間距離の自動認識やツールを用いない検出器搭載方向の切り替えを実現する人間工学デザイン。無段階検出器距離に応じた自動曲率補正機能や0o/ 90o搭載方向の切り替えは最小限の労力で
- 大型検出領域を有効化するパノラミック広域光学系とさまざまなアクセサリー
- 0D/1D/2D検出モードに加え、スナップショット、ステップスキャン、連続スキャン、アドバンスドスキャンの測定モードをサポート
- 迪夫拉克套房酒店ソフトウェアに完全かつシームレスに統合
三重奏・探路者升级版複合光学系
特許技術の三重奏光学系により、3.つの入射側ビームパスをマウスクリックで按钮切り替え。
- 粉体サンプル用集中法布伦塔诺光学系
- XRR、GID、キャピラリー測定用高強度Kα1,2平行ビーム
- エピタキシャル薄膜などの高分解能X射线衍射用Kα1.平行ビーム
探路者加光学系には、自動減衰板に加え2.つの受光側ビームパスをマウスクリックで按钮切り替え:
- サンプルアライメントや高強度測定用電動可変スリット
- 高分解能測定用アナライザー結晶
三重奏と探路者加を搭載したD8发现は、粉末サンプル、バルクサンプル、繊維サンプル、シート状サンプル、薄膜（アモルファス、多結晶、エピタキシャル）を含むすべてのサンプル測定に対応しており、光学系調整を必要とせず、雰囲気制御アタッチメントを利用した条件でも使用できます。
快锁
三重奏光学
LYNXEYE XE-T
Turbo X射线源（TXS）
蒙特尔光学系搭載IμSマイクロフォーカス十、線源
扭管
アプリケーション
プレミアムクラス十、線回折装置
薄膜解析
十、線回折 （X射线衍射）は、積層構造を有する薄膜サンプルにおいて非破壊評価を成し遂げる重要な役割を果たします。D8发现と迪夫拉克套房酒店ソフトウェアは、薄膜X射线衍射解析において測定や解析を簡単に実現します。
- 結晶相同定や結晶子サイズ・結晶子歪などの微構造解析を、より表面敏感に実施するすれすれ入射十、線回折 （GID）
- 単層膜、積層膜から複雑な超格子薄膜構造にいたるあらゆる薄膜サンプルにおける膜厚、表面/界面ラフネス、密度、密度プロファイルを得る十、線反射率測定 （XRR）
- エピタキシャル成長薄膜サンプルにおける詳細構造解析を成し遂げる高分解能十、線回折 （HRXRD）：膜厚、格子歪、格子ミスマッチ、緩和率、モザイク性、混晶材料の組成分析
- 残留応力解析と優先配向・結晶方位解析
材料研究
材料の構造情報と物理特性を結びつけることができるX射线衍射は、材料研究におけるもっとも重要な分析アプローチのひとつです。その点において、D8发现は、まさに材料研究のフラッグシップX射线衍射装置といえます。最先端技術にもとづく各種コンポーネントを搭載するD8发现は、最高の性能とフレキシブルさを兼ね備え、多くの研究者に材料の詳細な構造解析結果をもたらします。
- 結晶相同定と結晶構造決定
- 結晶子サイズや結晶子歪を含む微構造解析
- 残留応力解析、結晶配向・集合組織解析
- μmサイズ入射十、線を用いた微小部X射线衍射分析 （μXRD）
- 逆格子空間マッピング
スクリーニングと広範囲マッピング
D8发现は、ハイスループットスクリーニング （HTS）や大型サンプルの広範囲マッピングに最適なソリューションです。大型サンプル対応联电ステージは、D8发现を広い可動範囲と対応重量の両面で他の追随を許さないサンプルハンドリングをご提供します。
- 反射法/透過法両対応ウェルプレートのハイスループットスクリーニング （HTS）
- 最大300毫米サイズサンプルのX/Yマッピング
- 最大5公斤のサンプルのX/Yマッピング
- 自动化インターフェース
アプリケーションギャラリー
残留応力解析
二维検出器を用いたμXRD
结晶相定性：阶段ID
ハイスループットスクリーニング（HTS）
雰囲気制御 X射线衍射
小角十、線散乱 （萨克斯）
広角十、線回折 （WAXD）
結晶配向解析
十、線反射率測定 （XRR）
高分解能十、線回折 （HRXRD）
ウェハーマッピング・X/Yマッピング
逆格子空間マッピング （RSM）
仕様
D8发现仕様
| 仕様 | 利益 | |
| 扭管 | ライン焦点とポイント焦点の迅速な切り替え機構 対応波長: 铬、钴、铜、钼、银 最大印加出力: 3千瓦(波長による。フィラメントサイズ: 0.4×12 ㎜²時) 特許: EP 1 923 900 B1 |
異なるアプリケーションに最適な十、線波長を迅速に交換 広いアプリケーションに最適な結果をもたらすライン焦点とポイント焦点を高速に切り替え |
| マイクロフォーカス十、線源 IμS | 最大印加出力: 50瓦 蒙特尔または蒙特尔加光学系: 平行ビームまたは集光ビーム 最小ビームサイズ：180×180μm2. 大大フラックス：8×10⁸CPS（多重膜ミラー出口） 最小ビーム発散角: 0.5 mrad |
高い輝度と低いバックグラウンドを両立する嗯サイズビーム 低消费电力，完全完全，长寿命を実现するデザイン 最高の结果结果に导く最适なビーム形状とビームビーム |
| Turbo X射线源（TXS） | 微小ライン焦点: 0.3×3 mm² 焦点輝度: 6千瓦/平方毫米 対応波長: 铬、钴、铜、钼 最大印加電圧: 50千伏最大印加出力は波長による （铬：3.2千瓦，铜/钼：5.4千瓦，钴：2.8千瓦） フィラメント: プリアラインタングステン |
セラミックスセラミックス封入管球比比大5倍の强度 ラインラインビームおよびポイントポイントビームアプリケーション最最 速やかな交換と光学系再調整を最小化するプリアラインフィラメント |
三重奏光学系 |
ソフトウェア按钮切り替え: 电动可変発散スリット（Bragg-Brentano集中法光学系） 高強度平行ミラー （Kα1,2平行ビーム光学系) Ge（004）2結晶モノクロメーター （Kα1.高分解能平行ビーム光学系) 特价：US10429326，US6665372，US7983389 |
電動モーター制御により3.つの発散スリットモードと2.つの平行ビーム光学系の完全自動切り替え 非晶質、結晶質、エピタキシャル薄膜にかかわらず、粉末サンプル、バルクサンプル、繊維サンプル、フィルムサンプル、薄膜サンプルなどのあらゆるサンプルに最適 |
| 高分解能結晶モノクロメーター | 通用电气（220）および通用电气（004）(非対称カット、対称カット) 2.結晶モノクロメーターおよび4.結晶モノクロメーター （巴特尔斯）配置) 快锁機構により載せ替え時の光学系アライメント不要 |
最適な結果に応じた分解能と強度のバランス 异なる异なるサンプルタイプにに幅広く対応する迅速なモノクロメーター机 |
| D8ゴニオメーター | 光学エンコーダー付ステッピングモーター制御2.軸ゴニオメーター | 布吕克独自のアライメント保証により、他に類を見ない精度と確度を実現 メンテナンスフリードライブ机械 |
| UMCサンプルステージ | 最大X/Y並進軸可動範囲: ±150毫米 最大Z並進軸可動範囲: 50毫米 最大Phi回転軸可動範囲: 無制限 最大防扩散安全倡议傾斜軸可動範囲: -5° ~ +55° 最大荷重: 50公斤(中心位置のみ) |
サンプル重量とサンプルサイズを最大限拡張可能 オーダーメイドの大型サンプルチャンバーなどにも対応 |
| 中心的ユーレリアンクレードル | 最大X/Y並進軸可動範囲: ±40毫米 最大z并进轴可操作范囲：3毫米 最大Phi回転軸可動範囲: 無制限 最大防扩散安全倡议傾斜軸可動範囲: -11° ~ +98° 最大荷重: 1公斤 各種サンプルホルダーに対応 |
防扩散安全倡议傾斜軸を用いた残留応力測定や極点図測定に対応 X/Y軸を用いた自動マッピング機能 2轴制御倾斜阶段による精锐な表面アライメント（オプション） 粉末十、線回折用サンプルスピナー / キャピラリースピナー |
| 探路者加光学系 | 自動減衰板搭載 ソフトウェア按钮切り替え: 電動可変スリット Ge（220）2結晶アナライザー |
電動モーター制御により2.つの光学系の完全自動切り替え 林克西耶検出器シリーズ、EIGER2検出器対応 |
| LYNXEYE XE-T検出器 | 最高エネルギー分解能: < 8千电子伏（25摄氏度）下380电子伏半値幅) 検出モード: 0D、1D、2D 対応波長: 铬、钴、铜、钼、银 特点：EP1647840，EP1510811，US20200033275 |
布伦塔诺集中法光学系、POLYCAP平行ビーム光学系においてKβフィルターや受光側モノクロメーターは不要 铜波長では鉄系サンプルからの蛍光十、線を100%除去可能 従来の0次元検出器搭載システムと比較して、最大450倍高速測定を実現 Bragg-2D：発散ラインビームを用いた二维回折パターン記録 検出器保証: 不感素子なし (納品時) |
| EIGER2検出器 | 最新のハイブリッドフォトンカウンティング （HPC）技術にもとづくマルチモード検出器 （0D/1D/2D）モード) | 0D、1D、2D検出モードを用いたスナップショット、ステップスキャン、連続スキャン、アドバンスドスキャンのシームレスな統合 2θまたはγ方向の記録領域を最大化する人間工学にもとづいた検出器搭載方向切り替え機構 パノラミック光学系は工具を用いることなく広い回折情報の記録を実現 自動検出機距離認識機構により、測定目的に応じて測定記録範囲と角度分解能のバランスを両立 |
| 雰囲気制御アタッチメント | 制御温度範囲: -260°C~+2000°C 制御圧力範囲: 10-⁴ 毫巴~100巴（7.5×10-⁴ 托尔~7.5×10⁴ 托尔） 制御湿度範囲: 5% ~ 95% (相対湿度) |
大気雰囲気および雰囲気制御下における分析 diffrac.davinciによるステージモニターと制御 |
ソフトウェア
ウェビナー
詳細
D8发现リソース
アプリケーションアプリケーション，レポート，プロダクトプロダクト
- 药物的快速XRD分析：使用EIGER2 R 500K的快照1D和2D模式
- EIGER2 R500K大面积RSM:InxGa1-xN发光二极管、GaAs和Si1-xGex外延膜的分析
- EIGER2 R 500K地质中的μXRD：美国佐治亚州格拉夫斯山Lazulite的原位研究
- 用EIGER2 R 500K测量残余应力：硅上多晶硅钨涂层的0D、1D和2D研究
- 用EIGER2 R 500K和DIFFRAC进行织构分析。织构：轧制和拉伸铝板的研究
- 用IμS、μXRD相位图发现D8
- 用IμS微焦点源发现D8，平面掠入射衍射（IP-GID）
- 用IμSHigh Brilliance微焦点源、X射线反射仪发现D8
サポート
サービスとサポート
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- サービス診断およびアプリケーションサポートのための网状物ベースのリモート計測器サービス
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- 設置資格、運用資格/性能検証のためのコンプライアンスサービス
- サイトの計画と再配置
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