wc - 2200
非aqueos CO₂低温干洗
从好斗到温和
环境安全
Najwağniejszefiginalje.
Cryogenic Dry CO₂晶片清洗系统
Bruker晶片清洁2200系统使用独特的二氧化碳去除来自硅，化合物半导体，MEMS和薄膜头基材的颗粒污染和薄膜有机残基（CO2）雪清洁过程。CO.2除雪快速、环保、无害。与传统的湿法和等离子体清洗技术相比，全干工艺提供了许多优点。这种全自动化的高产量生产系统已经在全球范围内的高产量应用中得到了超过100个系统的现场验证。
25 WPH
光栅扫描运动
全球和本地清洁
产量提高
清洁效率降至120nm
IBE面纱和栅栏移除
环境安全
溶剂免费
零危险废物
Aplikacje
了解更多关于低温应用
WSPARCIE.
支持
我们如何提供帮助?
Bruker与客户合作解决现实世界的应用问题。我们开发下一代技术，帮助客户选择合适的系统和配件。该伙伴关系继续通过培训和扩展服务，在销售工具后很久。betway手机客户端下载
我们培训的支持工程师团队，应用科学家和主题专家完全致力于最大限度地利用系统服务和升级以及应用程序支持和培训的生产力。betway手机客户端下载