SEM(T-SEM)和茎中半导体薄片的EDS

按需会议 - 60分钟

电子透明样品中的定量元素映射

半导体结构的连续微型化需要他们对纳米级的理解,以确保合适的设计和故障分析。许多研究需要在高端传输电子显微镜以及复杂的样品制备和样品转移例程上进行昂贵的测量时间。

我们显示了评估电子透明样品中元素分布的选项,例如fib层层,使用能量色散X射线光谱不仅在tem,但也在SEM(图1)或FIB期间。单,多重和环形布鲁克Xflash®检测器可用于快速数据获取。介绍了SEM(所谓的T-SEM)和茎中电子透明标本的定量EDS的有效方法。

此外,EDS与其他分析技术相关,例如使用Bruker的非破坏性微观X射线荧光分析(Micro-XRF)M4龙卷风和传输kikuchi衍射(TKD)使用SEM中的电子透明标本。

半导体薄截面中覆盖在二级电子图像上的元素分布(元素线反卷积之后的净计数)。FIB使用高收集角度环形XFLASH FLATQUAD FLATQUAD EDS检测器和3分钟的采集时间,在SEM中研究了样品。为了清楚起见,并非所有元素都显示出来。

谁应该参加?

  • 半导体工厂和实验室的科学家和应用科学家
  • 对FIB感兴趣的学术人员和学生

演讲者

Meiken Falke博士

全球产品经理Tem-Eds,Bruker Nano Analytics

马克斯·帕兹克克(Max Patzschke)

应用科学家Bruker Nano Analytics

purvesh soni

应用科学家Bruker Nano Analytics