NM-VI
5nm生产光掩模维修
하이라이트
高级，关键级别的光鞋的精确修复
布鲁克’s AFM nanomachining systems are the global standard and preferred production technique for precision repair of advanced, critical-level photomasks. The nm-VI®系统是Bruker的第六代AFM引导的纳米机械。NM-VI将布鲁克（Bruker）与该公司脱颖而出，可以开发和交付与5纳米技术节点及以后的5纳米技术节点合作所需的创新纳米级材料成型过程。
특징
行业领先的面具维修方法
Nanomachining is a unique defect repair technique in the semiconductor industry, combining the positional control of an AFM and proprietary Nanomachining hardware and software to perform material removal at nanometer levels.
它的吸引力在于精确地清除各种材料的缺陷，包括铬，不透明的Mosi，Nitride硅，石英，EUV，外来材料和未知颗粒。必威手机客户端它的迭代维修能力和平面材料去除可确保修复区域，并具有更宽的“通过焦点”传输窗口。
Addressing Industry's Critical Challenges
Bruker的AFM引导的纳米机器具有六代和近20年的内联经验，具有独特的优化和增强功能，可控制高端光掩膜的模式缺陷，随着特征大小和掩模复杂性的降低。值得注意的功能包括：
- StandardBitClean®函数 - 特殊的硬件和软件自动化，可使用纳米机械尖端提供最终的固有局部清洁能力，以消除持续的未知粒子污染。
- 集成的本地模式复制功能是系统的标准配置。
- 设计图像检索软件包（可选）包括计算机硬件和NM-VI系统接口软件。它提供了从原始设计文件中检索蒙版维修区域图像图像的片段的能力，可为AFM扫描图像正确，显示和覆盖在指定的维修区域，以进行操作员的维修。
A Technique with Minimal Trade-Offs
The nm-VI offers production proven nanomachining with few downsides. The AFM-based nanomachining technique boasts the following over other (focused ion beam (FIB) and laser or electron beam) mask repair systems.
- 没有真空要求
- 没有化学
- 没有化学残留物
- 没有光束相关的充电效果
- no need for constant drift correction by re-registration to undesirable positioning markers
지원
支持
我们能帮你什么吗？
Bruker与我们的客户合作解决了现实世界中的应用程序问题。我们开发下一代技术，并帮助客户选择正确的系统和配件。在工具出售工具很久之后，这种合作伙伴关系继续通过培训和扩展服务。betway手机客户端下载
我们训练有素的支持工程师，应用程序科学家和主题专家团队全力致力于通过系统服务和升级以及应用程序支持和培训来最大化您的生产率。betway手机客户端下载