太阳的

硅中碳氧的定量

硅制造商必须控制其碳和氧含量,因为它们对半导体既有有利的影响,也有不利的影响。

关于用FT-IR定量碳和氧含量

FTIR分析硅中的碳和氧具有快速、灵敏、无破坏的特点,因此是一种广泛接受的硅质量控制方法。Bruker在这一领域拥有数十年的经验,并提供最强大和最新的解决方案。

进入碳和氧定量的细节

基于研究系列光谱仪的解决方案:

  • 根据ASTM/SEMI MF1391在室温下定量测定硅中的替代碳
  • 根据ASTM/SEMI MF1188对硅中间隙氧的室温定量
  • 推荐样品特性:厚度为0.5–2.5 mm,双面抛光,单晶或多晶
  • 低温分析可将灵敏度提高至约
    碳的10 ppba
  • 可达到的检测限<400ppba

基于CryoSAS低温硅分析仪的解决方案

  • 针对工业环境中的操作进行了优化,可在无需低温液体的情况下进行高必威东盟体育灵敏度低温硅分析
  • 全自动测量周期和数据评估,包括报告生成
  • 同时根据ASTM/SEMI标准对碳、氧和浅层杂质进行定量
  • 在低ppta范围内对单晶硅中的B、P和更浅杂质进行定量。
  • 低ppba范围多晶硅或单晶硅中取代碳的定量
  • 低ppba范围多晶硅或单晶硅中间隙氧的定量

基于SiBrickScan Si铸锭分析仪的解决方案:

  • 与ASTM/SEMI 1188标准相联系的用于完整硅锭中间隙氧定量的专用在线系统,带有校准功能
  • 因此,沿着硅锭纵轴的氧浓度分布
  • 根据样品的形状和性质,间隙氧检测限可达到<2ppma。