复合半导体的X射线计量学

JV-DX

最新一代用于半导体薄膜分析的X射线计量系统

为各种薄膜应用设计

JV-DX

高亮

JV-DX

Bruker JV-DX是用于材料研究,过程开发和质量控制的半导体薄膜分析的最新一代X射线计量系统。必威手机客户端该系统具有全自动源光学元件,可以在不用用户干预的情况下进行标准XRD,高分辨率XRD(HRXRD)和X射线反射模式。测量值是在配方中完全自动化的,并且能够在半手模式下执行更多的深奥测量。

Robust 5-axis
Eulerian cradle
带有完整的300毫米晶片映射和大型和小样品的容量
Multi-Application
必威手机客户端材料研究工具
支持s thin-film R&D for current and future design demands
Leading Edge
data analysis packages
Providing expert data presentation and interpretation with our well-known JV-RADS and JV-REFS software

功能

特征

Full 300mm Wafer Mapping

该仪器专为各种薄膜应用而设计,包括高分辨率摇摆曲线,相互的空间映射,X射线反射率,放牧XRD,相位ID,残留应力,膜质地和晶粒尺寸分析以及XRF。

The sample stage consists of a robust 5-axis Eulerian cradle, with full 300 mm wafer mapping, and capacity for both large and small samples. Multiple sample locations for smaller samples are provided to enable multiple measurements across multiple samples to be queued and performed automatically, even of different measurement types.

支持

支持

我们能帮你什么吗?

Bruker与我们的客户合作解决了现实世界中的应用程序问题。我们开发下一代技术,并帮助客户选择正确的系统和配件。在工具出售工具很久之后,这种合作伙伴关系继续通过培训和扩展服务。betway手机客户端下载

我们训练有素的支持工程师,应用程序科学家和主题专家团队全力致力于通过系统服务和升级以及应用程序支持和培训来最大化您的生产率。betway手机客户端下载

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