Understanding nanoscale dimensions of patterned sapphire substrates (PSS) are critical for next-generation materials development and to maintain production quality. Bruker's3D光学分子provide fast, accurate measurement of height, pitch and diameter of PSS features.
广泛的自动化功能可以使众多站点的操作员无关计量,因此可以很好地理解和控制晶片的过程变化。
此外,光学剖面和stylus profilers用于表征磷光层的粗糙度,厚度和形状,这些磷光层用于从下面的蓝色LED产生白光。这些特性对光转化的效率具有很大的影响,也会影响照明的颜色和均匀性。
由于图案化的蓝宝石底物的音高低于2微米,因此光学技术无法实现提供有价值的过程计量所需的分辨率,所以原子力显微镜(AFM) deliver an accurate solution. They provide sub-nanometer resolution and the ability to measure all the data necessary to keep the PSS manufacturing process under control.
FT-IR发射光谱是分析新型IR源,激光器,LED或电致发光的理想工具。研究系列FT-IR光谱仪的最高光谱分辨率允许完全解决激光模式。暂时分辨率向低NS范围的时间分辨测量可以使单个激光脉冲获得。利用锁定技术的幅度调节步骤扫描提供了记录非常弱排放信号的可能性。对于MM或µM范围的小发射器,适应研究光谱仪的IR显微镜同时为发射显微镜提供了出色的横向分辨率和最大敏感性。
可以通过Bruker FT-IR研究光谱仪测试和表征自开发的红外探测器。单元探测器可以直接适应研究系列光谱仪的外部光学元件。为了表征焦平面阵列(FPA)探测器专用外部测量模块。