半导体和纳米技术

Opto LED

Bruker的计量解决方案为生产监测和产量改进提供准确和可重复的测量。

LED EPI层监控

HRXRD是为ePI层的测量而建立的。布鲁克QCVelox-E.是LED监测领域的艺术领导者,广泛应用于整个行业。

QCVelox-E可以全自动,高通量HRXRD测量和自动启用RADS分析并报告结果使客户能够监控他们的过程,而无需X射线专家分析数据。可选的SEC-GEM工厂主机软件和机器人加载可用于完成系统的自动化。

半导体衬底的常规分析

改善图案化的蓝宝石衬底性能和产量

了解图案化蓝宝石基板(PSS)的纳米级尺寸对于下一代材料的开发至关重要,并保持生产质量。必威手机客户端布鲁克的三维光学轮廓仪提供快速,精确测量PSS特征的高度,俯仰和直径。

广泛的自动化功能使得众多站点的操作员无关的计量,以便可以很好地理解和控制晶圆上的过程变化。

此外,光学分析器触针轮廓仪用于表征磷光体层的粗糙度,厚度和形状,其用于从底层蓝色LED中产生白光。这些性质对光转换效率具有很大的影响,并且还可以影响照明的颜色和均匀性。

PSS结构的子纳米计量

由于图案化蓝宝石衬底的间距低于2微米,光学技术无法达到提供有价值的工艺计量所需的分辨率,原子力显微镜(AFM)提供准确的解决方案。它们提供子纳米分辨率和测量保留PSS制造过程所需的所有数据的能力。

光电器件纹理与元素分析

在元素组成和晶体特性中了解纳米微米尺度的特征是了解现代光电器件的性能和行为。Bruker提供各种电子显微镜分析仪,以研究SEM和TEM系统上的这些性能。Bruker的电子显微镜分析仪,如eds for sem.透射电镜EBSD.WDS微XRF.,允许对纹理(EBSD)和元素分布进行分析,并将其降低至ppm,具有较高的空间分辨率,也可以在层状材料(Micro XRF)中进行分析。特别快速的分析,如质量控制或大样本区域所需,可以使用高收集角度设备,如Bruker必威手机客户端Xflash®Platquad.探测器。

激光和LED发射,电致发光

FT-IR发射光谱是分析新型IR源,激光,LED或电致发光的理想工具。研究系列FT-IR光谱仪的最高频谱分辨率允许完全解析激光模式。用时间分辨率下调到低NS范围的时间分辨率测量使得能够获取单个激光脉冲。使用锁定技术的幅度调制的步骤扫描提供了一种记录非常弱发射信号的可能性。对于MM或μm的小发射器,适用于研究光谱仪的IR显微镜提供出色的横向分辨率和对发射显微镜的最大灵敏度同时。

通过FT-IR检测和表征

可以通过Bruker FT-IR研究光谱仪进行自发红外探测器和特征。单元素检测器可以直接适用于研究系列光谱仪的外部光学器件。对于焦平面阵列(FPA)检测器的表征,可以使用专用的外部测量模块。