半导体和纳米技术

光电子的领导

Bruker的计量解决方案为生产监控和良率提高提供精确和可重复的测量。

LED Epi层监控

hrx射线衍射法用于测量表面层是很成熟的。的力量QCVelox-E是LED监控领域最先进的领导者,并广泛应用于整个行业。

QCVelox-E能够实现全自动、高通量HRXRD测量拉德分析并报告结果,使客户能够监控他们的过程,而不需要x光专家分析数据。可选配SECS-GEM工厂主机软件和机器人加载,完成系统的自动化。

半导体衬底的常规分析

改进图案化蓝宝石衬底的性能和成品率

了解带图案的蓝宝石衬底(PSS)的纳米尺寸对于下一代材料开发和保持生产质量至关重要。必威手机客户端力量的三维光学分析器提供快速、准确测量高度、节距和直径的PSS特点。

广泛的自动化功能使操作员独立于许多地点的计量,从而可以很好地理解和控制晶片之间的工艺变化。

此外,光学分析器笔分析器用于表征荧光粉层的粗糙度、厚度和形状,这些荧光粉层用于从底层的蓝色LED产生白光。这些特性对光转换的效率有很大的影响,也会影响照明的颜色和均匀性。

PSS结构的亚纳米测量

由于图案蓝宝石衬底的间距低于2微米,光学技术无法达到提供有价值的工艺测量所需的分辨率,原子力显微镜(AFM)提供准确的解决方案。他们提供亚纳米分辨率和测量所有必要数据的能力,以保持PSS制造过程在控制之下。

光电子器件的晶粒结构与元素分析

了解纳米到微米尺度的元素组成和晶体学特性是理解现代光电器件性能和行为的必要条件。Bruker提供了多种电子显微镜分析仪,在SEM和TEM系统上研究这些性能。布鲁克的电子显微镜分析仪,比如EDS对扫描电镜TEMEBSD改进算法Micro-XRF,允许分析纹理(EBSD)和元素分布到ppm的高空间分辨率和层状材料(Micro-XRF)。必威手机客户端特别是快速分析,如质量控制或大样本区域所需的,可以使用高采集角度的设备,如BrukerXFlash®FlatQUAD探测器。

激光和LED发射,电致发光

傅立叶变换红外发射光谱是分析新型红外源、激光、led或电致发光的理想工具。研究系列FT-IR光谱仪的最高光谱分辨率允许完全解决激光模式。时间分辨测量,时间分辨率低到ns范围,可以获得单个激光脉冲。利用锁相技术的调幅阶跃扫描可以记录非常微弱的发射信号。对于mm或µm范围内的小发射体,适用于研究光谱仪的红外显微镜同时为发射显微镜提供极好的横向分辨率和最大的灵敏度。

红外光谱检测与表征

自主研发的红外探测器可以用Bruker FT-IR研究光谱仪进行测试和表征。单元素探测器可直接适用于本研究系列光谱仪的外部光学。对于焦平面阵列(FPA)探测器的特性,可以使用专用的外部测量模块。